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仪器共享 Sharing Instrument

设备名称：掩膜对位光刻机 仪器型号：MDA-400M 所属单位：中国科学院长春应用化学研究所 所属类别：仪器 设备原值：66.61 万元 制造厂商：-- 生产国别：-- 购置日期： 当前状态：对外服务

主要技术指标	1.基底尺寸2x2，4x4、6x6英寸，可承载掩膜尺寸5x5、7x7英寸。 2.紫外光源功率350W，工作波长365nm。 3.承片台对位移动范围：X方向+/-10mm，Y方向+/-10mm，水平可旋转角度+/-5度。 4.对准过程掩膜和基底间隙可调，可调范围10-1000微米，可调精度1微米。
功能/应用范围	该设备可实现光刻方式加工微米尺寸图形结构，最小光刻图形尺寸0.8微米。设备配备精度达到1微米的手动对准系统，具有多层微结构层叠加工的能力。采用350w高功率紫外光源配合匀光系统，可实现最大6x6英寸面积上的均匀紫外曝光和图形加工。结合湿法清洗刻蚀设备，可实现基底表面电极图形、周边引线及辅助微结构的高精度复合加工，为微功能器件的加工提供硬件支持。
服务领域	,轻工/纺织,石油/石化,化工/化纤,橡胶/塑料（材料）,机械制造
技术特色

对外服务 (平均时机／年)	--
收费标准 (元／样品)	面议

联系人	于新红
联系电话	13904325767