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设备名称：粉体微颗粒表面磁控溅射镀膜系统 仪器型号：ANGSTROM DEP II 所属单位：中国科学院长春应用化学研究所 所属类别：仪器 设备原值：82 万元 制造厂商：-- 生产国别：-- 购置日期： 当前状态：对外服务

主要技术指标	1.镀膜方式：磁控溅射 2.粉体/颗粒尺寸：≥0.5μm 3.溅射源：Φ3英寸圆形平面靶2只矩形平面靶1只 4.极限真空： 1.7×10-9Pa(分子泵) 1.1×10-8Pa（扩散泵）
功能/应用范围	在载体表面进行功能性修饰镀膜，提高催化剂在电化学环境中的导电性能和稳定性，批量制备高性价比的催化剂。
服务领域	,轻工/纺织,石油/石化,化工/化纤,橡胶/塑料（材料）
技术特色

对外服务 (平均时机／年)	--
收费标准 (元／样品)	面议

联系人	张弘
联系电话	18686604211